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產(chǎn)品分類
更新時間：2025-09-26 
瀏覽次數(shù)：149SONOSYS 是全的球的領(lǐng)的先的兆聲波技術(shù)供應商之一，尤其在半導體、微電子和精密光學等高的端制造領(lǐng)域享有盛譽。其產(chǎn)品以高效、均勻和低損傷的清洗效果而著稱。
公司全稱： SONOSYS GmbH
所在地： 德國斯圖加特附近的韋爾貝格，地處德國著名的精密工程和工業(yè)技術(shù)核心區(qū)。
核心技術(shù)： 專注于研發(fā)和生產(chǎn)基于兆聲波技術(shù)的精密清洗系統(tǒng)。
市場定位： 面向?qū)η逑垂に囈髽O嚴苛的高科技行業(yè)，提供定制化的高的端清洗解決方案。
要理解SONOSYS的優(yōu)勢，首先要明白兆聲波清洗與普通超聲波清洗的區(qū)別：
| 特性 | 普通超聲波清洗 | 兆聲波清洗 |
|---|---|---|
| 頻率范圍 | 通常 20 kHz - 80 kHz | 通常 800 kHz - 3 MHz（兆赫茲級別） |
| 物理效應 | 主要依靠空化效應（氣泡在液體中劇烈內(nèi)爆產(chǎn)生沖擊力）。 | 減弱空化效應，增強聲流效應。產(chǎn)生非常微小、均勻且密集的能量場。 |
| 清洗特性 | 清洗力度大，但方向性不強，可能產(chǎn)生“陰影區(qū)"，對精密部件有潛在損傷風險。 | 清洗力柔和、高度均勻，能穿透微結(jié)構(gòu)，無方向性限制，幾乎無損傷。 |
| 適用對象 | 常規(guī)五金件、機械零件等。 | 晶圓、芯片、微機電系統(tǒng)、光學鏡頭、納米材料等超精密部件。 |
SONOSYS兆聲波清洗的核心優(yōu)勢：
極的高的清洗均勻性： 兆聲波能在整個清洗槽內(nèi)產(chǎn)生均勻的能量場，確保每個部件，尤其是大面積如晶圓，表面的每個點都受到一致的清洗作用，避免了清洗不均的問題。
無損清洗： 由于能量柔和且空化效應弱，SONOSYS的清洗機非常適合清洗帶有微細結(jié)構(gòu)、脆弱線路或敏感涂層的部件，不會造成物理損傷。
卓的越的顆粒去除能力： 對于亞微米甚至納米級別的微小顆粒污染物，兆聲波的“聲流"效應能有效地將其從表面“剝離"，這是普通超聲波難以實現(xiàn)的。
高效且節(jié)省化學品： 強大的物理清洗能力意味著可以減少化學清洗劑的使用量和使用時間，更加環(huán)保和經(jīng)濟。
SONOSYS提供從標準模塊到完的全定制化的自動化系統(tǒng)。
兆聲波換能器模塊： 這是SONOSYS的核心技術(shù)部件。他們生產(chǎn)各種形狀和尺寸的兆聲波 transducer，可以集成到客戶現(xiàn)有的清洗槽或設(shè)備中。
臺式/實驗室級清洗機： 用于研發(fā)、小批量生產(chǎn)或工藝驗證。例如 MST系列，結(jié)構(gòu)緊湊，適合實驗室環(huán)境對單片晶圓或小型精密部件進行清洗。
在線式/全自動清洗系統(tǒng)： 集成到自動化生產(chǎn)線中，用于大規(guī)模制造。通常配備機械手、化學品管理系統(tǒng)、干燥單元等，實現(xiàn)全自動操作。例如用于半導體前道制程的晶圓清洗站。
半導體制造：
晶圓清洗： 在光刻、刻蝕、沉積等工藝前后，去除硅片表面的顆粒、有機物和金屬污染物。
光掩膜版清洗： 清潔極其昂貴且精密的掩膜版，確保圖形轉(zhuǎn)移的準確性。
CMP后清洗： 清除化學機械拋光后殘留的研磨顆粒和漿料。
微機電系統(tǒng)：
清洗具有復雜三維微結(jié)構(gòu)的MEMS器件，去除在刻蝕和釋放步驟中產(chǎn)生的殘留物，而不損壞脆弱的懸臂梁和結(jié)構(gòu)。
精密光學與光電：
清洗激光鏡片、光學傳感器、相機模組等，確保極的高的潔凈度，避免成像瑕疵。
先進封裝：
在晶圓級封裝、3D-IC等先進封裝工藝中，清洗晶圓和芯片，為鍵合等步驟做準備。
生命科學：
清洗微流控芯片、生物傳感器等醫(yī)療器械和實驗器件。
德國的SONOSYS兆聲波清洗機代表了精密清洗技術(shù)的頂尖水平。其核心競爭力在于：
技術(shù)專精： 數(shù)十年專注于兆聲波技術(shù)，擁有深厚的技術(shù)積累和專的利。
質(zhì)量可靠： 德國制造，秉承了德國工業(yè)對精度、可靠性和耐用性的極的致追求。
解決方案導向： 能夠根據(jù)客戶的具體工藝需求（如工件類型、污染物、產(chǎn)能要求）提供高度定制化的解決方案。
選擇SONOSYS的典型場景是： 當您的清洗對象非常精密、昂貴（如晶圓、芯片），且對清洗后的表面質(zhì)量、顆粒控制和無損傷有極的高要求時，SONOSYS的設(shè)備往往是首的選之一。
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